本発明では、還元剤として2価のスズ塩をビスマス塩に共存させ、鉛化剤とし

本発明では、還元剤として2価のスズ塩をビスマス塩に共存させ、鉛化剤としてアミノカルボン酸類とオキシカルボン酸類を複合添加した還元ビスマスメッキ浴に、塩化物を持定値以下に抑制した濃度で添加し、且つ、pHを所定の酸性側に調整するため、メッキ浴の安定性とビスマス皮膜の均一性を両立できる。即ち、メッキ作業中或いは作業後に還元メッキ浴が分解することを防止して、メッキ浴を安定化してメッキの連続作業性を確保しながら、ビスマス皮膜の均一析出性を違成できる。また、本発明の還元メッキ浴では、ビスマス皮膜の膜厚を厚く形成することも可能である。

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在本发明中，在使二价锡盐与作为还原剂的铋盐共存、并作为先导剂添加氨基羧酸和羟基羧酸的还原铋镀浴中，氯化物的浓度被抑制在一定值以下。由于将pH调节到预定的酸性侧，因此可以同时实现镀液的稳定性和铋膜的均匀性。<br>即，可以防止还原镀液在镀覆作业中或镀覆后分解，使镀液稳定化，确保镀覆的连续性，使铋膜的均匀析出性不同。此外，在本发明的还原镀浴中，可以形成较厚的铋膜。

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在本发明中，为了使二价锡盐作为还原剂与铋盐共存，在作为铅化剂而复合添加了氨基羧酸类和氧基磺酸的还原铋镀浴中，以抑制了氯化物在规定值以下的浓度添加，并且将pH调整到规定的酸性侧镀金浴的稳定性和铋膜的均匀性可以并存。<br>即，防止在镀金作业中或作业后还原镀金浴分解，稳定镀金浴以确保镀金的连续工作性的同时，可以形成铋膜的均匀析出性。另外，在本发明的还原镀金浴中，也可以厚地形成铋皮膜的膜厚。

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在本发明中，为了在作为还原剂的2价锡盐与铋盐共存、作为铅化剂复合添加了氨基羧酸类和羟基羧酸类的还原铋镀浴中，以抑制在规定值以下的浓度添加氯化物，并且将pH调整到规定的酸性侧，优选镀浴的稳定性和铋镀浴也就是说，既能防止电镀操作中或操作后还原电镀浴分解，稳定电镀浴，确保电镀的连续性，又能达到铋被膜的均匀析出性。另外，在本发明的还原镀浴中，也可以将铋被膜的膜厚形成得较厚。

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