本発明の還元ビスマス浴にあっては、上記成分(A)~(D)の混合により自

本発明の還元ビスマス浴にあっては、上記成分(A)~(D)の混合により自動的に溶液を調製できる場合は別であるが、当該必須成分全体の溶解性を良好に担保するため、浴ベースとして各種の酸を使用しても良い。上記酸としては、有機スルホン酸、脂肪族カルボン酸などの有機酸、ホウフッ化水素酸ケイフッ化水素酸、スルファミン酸、硫酸などの無機酸が使用できる。上記界面活性剤は、析出するビスマス皮膜の級密性、平滑性、密着性などの補助的改善を目的として含有され、ノニオン系界面活性剤、両性界而活性剤、カチオン系界而活性剤或はアニオン系界面活性剤を単用又は併用できる。

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在本发明的还原铋浴中，除非通过混合上述组分(A)至(D)可以自动制备溶液，否则为了确保整个必需组分的良好溶解性。可以使用各种酸作为溶液。沐浴基地。<br>作为上述酸，可以使用有机磺酸、脂肪族羧酸等有机酸、硼酸、硅基疏水酸、氨基磺酸、硫酸等无机酸。<br>上述表面活性剂是为了辅助提高析出铋膜的层次性、平滑性、附着力等而含有的，是非离子型表面活性剂、两性表面活性剂、阳离子型表面活性剂或阳离子型表面活性剂。单独使用或与阴离子表面活性剂组合使用。

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在本发明的还原铋浴中，除了可以通过上述成分（A）～（D）的混合自动制备溶液的情况以外，为了良好地保证该必须成分整体的溶解性，也可以使用各种酸作为浴基。<br>作为上述酸，可以使用有机磺酸、脂肪族羧酸等有机酸、硼氟化氢酸硅氟氢酸、磺胺酸、硫酸等无机酸。<br>所述表面活性剂被包含以辅助改善析出的铋膜的级密性、平滑性、附着性等为目的，可以单用或并用非离子系统表面活性剂、两性界而活性剂、阳离子系统界而活性剂或阴离子类表面活性剂。

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在本发明的还原铋浴中，除了能够通过上述成分( a )~(D )的混合自动制备溶液的情况以外，为了良好地确保该必须成分整体的溶解性，也可以使用各种酸作为浴基体。作为上述酸，可以使用有机磺酸、脂肪族羧酸等有机酸，氟硼酸硅氢氟酸、氨基磺酸、硫酸等无机酸。上述表面活性剂是为了辅助改善析出铋被膜的级密性、平滑性、密合性等而含有的，可以单独使用或并用非离子系表面活性剂、两性界而活性剂、阳离子系界而活性剂或阴离子系表面活性剂。

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