反応後のプレートの洗浄を行う。プレートを裏返して液を捨て、キムタオルに

反応後のプレートの洗浄を行う。プレートを裏返して液を捨て、キムタオルに残液を振り落とす。マルチチヤンネルピペットを用いて、Wash Bufferを300μL添加し、ウヱルを洗浄する。上記操作をさらに2回繰り返し、全3回洗浄する。プレートを裏返して液を捨て、キムタオルに残液を振り落とす。マルチチャンネルピペットを用いて、希釈した一次抗体を反応用プレートに50μLずつ添加する。プレートにプレ一トシ一ルをしてPlate Shaker Thermostatに入れ、25°C、300 rpmで1時間振盪する。

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向该反应后清洗板。 弃去液体，并翻转板，抖落残留液体到Kimtowel。 使用多通道移液管，所述洗涤缓冲液是添加300μL，洗Uweru。 重复两次以上的操作，它都洗三次。 弃去液体，并翻转板，抖落残留液体到Kimtowel。 使用多道移液器，通过初级抗体的50μL加入在反应板中稀释。 将平板预酮甲苯磺酸盐Ichiru置于平板振荡器恒温器，在25℃，300rpm下振荡1小时。

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反应后清洗板。 将盘子翻过来，丢弃液体，将剩余的液体扔到金毛巾上。 使用多奇扬内尔移液器，加入300μL的瓦什布弗，洗涤尿素。 重复上述操作两次，全部洗涤三次。 将盘子翻过来，丢弃液体，将剩余的液体扔到金毛巾上。 使用多通道移液器，将稀释的主要抗体加入反应板50μL。 板前托希一，放入Plate Shaker Thermostat，在25°C，在300rpm摇动1小时。

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进行反应后的板材的清洗。 把金属板翻过来扔掉液体，往木村毛巾上洒下残液。 使用多晶形金刚砂，添加300μL Wash Buffer，清洗Well。 上述操作再重复2次，全3次清洗。 把金属板翻过来扔掉液体，往木村毛巾上洒下残液。 使用多通道小区将稀释的第一抗体逐步添加到反应板50μL。 在板块上做板块一轴装入Plate Shaker Thermostat，以25°C、300 rpm1小时振荡。

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